以下是專家對解決日光性皮炎的具體方案的全面介紹：

第一步：消除過敏源。采用超微粉碎、精分子納米萃取技術(shù)自多種天然植物中提純有效成分，有效成分最大直徑小于45納米，能夠完全被肌膚所吸收，滲透至角質(zhì)層以下的天然成分能夠迅速中和組胺、慢反應(yīng)介質(zhì)等多種過敏介質(zhì)，有效阻斷過敏原對肌膚的刺激，解除日光性皮炎的誘因。

第二步：舒緩毛細(xì)血管。各類有效植物成分能夠解除肌膚毛細(xì)血管痙攣和阻塞，快速恢復(fù)肌膚微循環(huán)，加速過敏介質(zhì)的流動，迅速緩解皮膚瘙癢、干燥等問題，肌膚不再敏感。

第三步：修復(fù)受損肌膚。在有效抗敏的同時，注重對過敏后脆弱肌膚的修復(fù)，由于過敏肌膚角質(zhì)層會出現(xiàn)變薄或脫落的現(xiàn)象，特別加入營養(yǎng)修復(fù)成分，能夠不斷滋養(yǎng)受損肌膚，形成新的肌膚保護(hù)層，防治日光性皮炎二次發(fā)作。

希望能過以上對解決日光性皮炎的的介紹，對您有所幫助。